- 제품코드 G059603
- 제품명 빔,플라즈마 진공 가공기
- 가격 가격협의
- 모델명 RF & DC Magnetron Sputtering System
- 제품분류 전기/전자/통신/반도체IC/반도체부품/클린룸
- 사양 진공상태에서 저항 열, 전자 beam, Plasma를 이용하여 금속 및 비금속 물질을 기체상태로 만들어 기판에 증착 시키는 장비이며, 주로 디스플레이, 반도체, 태양광 제조에 많이 쓰이고 있습니다.
- 세금계산서 가능
- 거래방식
- 상태
- 판매지역 전국
- A/S 여부 가능
- 설치 및 시운전 불가능
상세정보
Available in Cylindrical, Rectangular, Spherical chamber Shapes
Electro-Plated Stainless Chamber(STS304, STS316L)
Available in single & multi sputter sources with water cooling system
Available in high voltage power supply (3kw ~ 10kw)
Substrate Rotation & Heating(100°C up to 400°C)
Source size from 3” to 8”, User defined source size available
TMP, Cryo Vacuum pumping System with Matching Dry pump or Dual Stage Rotary Vane Pump
Full Range Vacuum Gauge with Digital Display & Readout
PC or PLC Controlled System
Electro-Plated Stainless Chamber(STS304, STS316L)
Available in single & multi sputter sources with water cooling system
Available in high voltage power supply (3kw ~ 10kw)
Substrate Rotation & Heating(100°C up to 400°C)
Source size from 3” to 8”, User defined source size available
TMP, Cryo Vacuum pumping System with Matching Dry pump or Dual Stage Rotary Vane Pump
Full Range Vacuum Gauge with Digital Display & Readout
PC or PLC Controlled System