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    제품코드 G059603
    제품명 빔,플라즈마 진공 가공기
    모델명 RF & DC Magnetron Sputtering System
    제품분류 전기/전자/통신/반도체IC/반도체부품/클린룸
    사양 진공상태에서 저항 열, 전자 beam, Plasma를 이용하여 금속 및 비금속 물질을 기체상태로 만들어 기판에 증착 시키는 장비이며, 주로 디스플레이, 반도체, 태양광 제조에 많이 쓰이고 있습니다.
    가격 가격협의 세금계산서 가능
    상태 신품 판매지역 전국
    A/S여부 가능
    설치 및 시운전 불가능
    제품/가격 문의

    (주)아이브이티: 053-354-2939

    상세정보
    Available in Cylindrical, Rectangular, Spherical chamber Shapes
    Electro-Plated Stainless Chamber(STS304, STS316L)
    Available in single & multi sputter sources with water cooling system
    Available in high voltage power supply (3kw ~ 10kw)
    Substrate Rotation & Heating(100°C up to 400°C)
    Source size from 3” to 8”, User defined source size available
    TMP, Cryo Vacuum pumping System with Matching Dry pump or Dual Stage Rotary Vane Pump
    Full Range Vacuum Gauge with Digital Display & Readout
    PC or PLC Controlled System
    판매자 정보
    • (주)아이브이티
    • (주)아이브이티
    • 053-354-2939
    • master@ivt4u.com
    • 대구광역시 북구 검단공단로 26 (검단동)